Goedkeape priritist foar spesjaliteitsgassen Sina Oanbod Electron / Semiconductor Grade 99.999% Purity Carbon TetrafluoRide / TetrafluoRome CF CE CF4 GAS PRIE

"Sirkens, ynnovaasje, strengheid, en effisjinsje kinne de persistente opfetting fan ús organisaasje wêze om te stean foar sûnens fan 'e ûnderlinge op' e sûnens fan Cheape-wachtsjen fan CarofluoRide / TetrafluoRome CF4 Gaspriis, wêzen fan in jonge eskalatingbedriuw, wy miskien net de meast effektyf, mar wy besykje ús grutste om yn 't algemien jo fantastyske partner te wêzen.
"Sincerity, ynnovaasje, rigoriteit, en effisjinsje" kin de persistente befetsje fan ús organisaasje wêze foar dy lange termyn om mienskiplik te fêstigjen mei klanten foar wjersidich wjersidich en wjersidichwinst foarSina CF4 en CF4 Gas, "Meitsje wearden, tsjinje klant!" is it doel dat wy neistribje. Wy hoopje fan herte dat alle klanten lange termyn sille oprjochtsje en wjersidich foardielen mei US. As jo ​​mear details krije oer ús bedriuw, wês der wis fan dat jo no kontakt opnimme mei ús!

Technyske parameters

Carbon TetraFluoRide is in halogeed hydrocarbon mei de gemyske Formule CF4. It kin wurde beskôge as in Haloged-hydrocarbon, Halogeated Metaan, perfluoroCarbon, as in teorganyske ferbining. Koalstof TetrafluoRide is in kleurloos en geurleaze gas, insoluble yn wetter, oplosber yn benzene en chloroform. Stabyl ûnder normale temperatuer en druk, foarkomme sterke oksidanten, ontvlambaar as brânbere materialen. Net-brânber gas, de ynterne druk fan 'e kontener sil tanimme by bleatsteld oan hege waarmte, en d'r is in gefaar fan kreakjen en eksploazje. It is gemysk stabyl en net-ontvlambaar. Allinich Slachtige Ammonia-natrium-metaal-reagens kin op keamertemperatuer wurkje. Carbon TetraFluoRide is in gas dat feroarsaket it glêstúnbous effekt. It is heul stabyl, kin in lange tiid yn 'e sfear bliuwe, en is in heul krêftich glêstúngas. Carbon TetraFluoRide wurdt brûkt yn it plasma etsen fan ferskate yntegreare circuits. It wurdt ek brûkt as in lasergas, en wurdt brûkt yn koelpersen mei lege temperatuer, solventen, sulranten, smerlju, isolearjende materialen, en koelten foar ynfrareilde detektoren. It is it meast brûkte plasma-etsen yn 'e mikroeleektronyksektor. It is in mingsel fan TetrafluoRomethane High-Purity Gas en TetrafluoRomethane hege-suvere gas en hege suver soerstof. It kin breed brûkt wurde yn Silicon, silisiumdiokside, silisiumnitride, en fosfoSlik glês. De etsen fan tinne filmmaterialen lykas Tungsten en Tungsten is ek breed brûkt yn it oerflakte fan elektroanyske apparaten, lasemtechnology, lege temperatuer, liedende ynspeksje, liedende ynspeksje yn printe sirkwasproduksje. Wurdt brûkt as in lege temperatuer koelkast en plasma droege etchingtechnology foar yntegreare circuits. Foarsoarchsmaatregels foar opslach: Bewarje yn in koel, ventilearre net-brânber gaswagels. Hâld fuort fan fjoer en hjittûmels. De opslachtemperatuer moat net mear as 30 ° C. It moat apart wurde opslein fan maklik (brânber) brânstof en oksidanten, en foarkomme mingde opslach. It opslachgebiet moat wurde foarsjoen fan lekkage-behanneling fan ferlies fan lekkens.

Oanfraach:

① Koelmiddel:

Tetrafluoromethane wurdt somtiden brûkt as koelmiddel foar lege temperatuer.

② etsen:

It wurdt brûkt yn elektroanika-mikrofabriking allinich as yn kombinaasje mei soerstof as in plasma etsen foar silisium, silisiumdiokside, en silisium nitride.

Normaal pakket:

Foardiel:

①high-suverens, lêste foarsjenning;

②iso Certificaburutorant;

③fast levering;

④on-line-analysesysteem foar kwaliteitskontrôle yn elke stap;

It easken fan ⑤h-eask en foarsichtich proses foar it behanneljen fan silinder foardat jo ynfolje;