Silaneis in ferbining fan silisium en wetterstof, en is in algemiene term foar in rige ferbiningen. Silane omfettet benammen monosilane (SiH4), disilane (Si2H6) en guon hegere nivo silisiumwetterstofferbiningen, mei de algemiene formule SinH2n+2. Yn 'e eigentlike produksje ferwize wy lykwols oer it algemien nei monosilane (gemyske formule SiH4) as "silane".

Elektroanyske klassesilane gaswurdt benammen krigen troch ferskate reaksje destillaasje en suvering fan silisium poeder, wetterstof, silisium tetrachloride, katalysator, ensfh Silane mei in suverens fan 3N oant 4N wurdt neamd yndustriële-graad silane, en silane mei in suverens fan mear as 6N wurdt neamd elektroanyske- klasse silane gas.

As gasboarne foar it dragen fan silisiumkomponinten,silane gasis in wichtich spesjaal gas wurden dat net ferfongen wurde troch in protte oare silisiumboarnen fanwegen syn hege suverens en fermogen om fyn kontrôle te berikken. Monosilane genereart kristallijn silisium troch pyrolysereaksje, dat op it stuit ien fan 'e metoaden is foar grutskalige produksje fan korrelige monokristallijn silisium en polykristallijn silisium yn 'e wrâld.

Silane eigenskippen

Silane (SiH4)is in kleurleas gas dat reagearret mei lucht en fersmoarging feroarsaket. Syn synonym is silisiumhydride. De gemyske formule fan silane is SiH4, en syn ynhâld is sa heech as 99,99%. By keamertemperatuer en druk is silaan in fûleindich geurend tosk gas. It smeltpunt fan silaan is -185 ℃ en it siedpunt is -112 ℃. By keamertemperatuer is silaan stabyl, mar as it wurdt ferwaarme oant 400 ℃, sil it folslein ûntbine yn gasfoarmige silisium en wetterstof. Silane is flammable en eksplosyf, en it sil burn explosively yn lucht of halogeen gas.

Applikaasje fjilden

Silane hat in breed oanbod fan gebrûk. Neist de meast effektive manier te wêzen om silisiummolekulen oan it oerflak fan 'e sel te heakjen by de produksje fan sinnesellen, wurdt it ek in protte brûkt yn fabrikaazjeplanten lykas semiconductors, platte paniel-displays en coated glês.

Silaneis de silisiumboarne foar gemyske dampôfsettingsprosessen lykas ienkristal silisium, polykristalline silisium epitaksiale wafels, silisiumdiokside, silisiumnitride, en fosfosilikaatglês yn 'e semiconductor-yndustry, en wurdt in protte brûkt yn' e produksje en ûntwikkeling fan sinnesellen, silisiumcopier drums , fotoelektryske sensoren, optyske fezels, en spesjaal glês.

Yn 'e ôfrûne jierren binne hege-tech tapassingen fan silanen noch yn opkomst, ynklusyf de fabrikaazje fan avansearre keramyk, gearstalde materialen, funksjonele materialen, biomaterialen, hege-enerzjymaterialen, ensfh., en wurde de basis fan in protte nije technologyen, nije materialen, en nije apparaten.